25%四甲基氫氧化銨
25%四甲基氫氧化銨
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公司自主研發(fā)低表面張力的顯影液配方產(chǎn)品,添加表面活性劑起到潤濕光刻膠表面和快速滲入界面的作用,解決因TMAH顯影液表面張力較大以及因膨潤帶來(lái)的圖案坍塌問(wèn)題,提升晶制造的良率。該復配技術(shù)使用兩種表面活性劑,總添加量不到0.025% (進(jìn)口產(chǎn)品添加量約0.1%),在滿(mǎn)足表面張力的同時(shí),產(chǎn)品金屬離子含量沒(méi)有明顯升高,大大保證了產(chǎn)品質(zhì)量。
目前公司生產(chǎn)的25%四甲基氫氧化銨(TMAH)產(chǎn)品質(zhì)量已達到SEMI國際標準G4等級 (金屬離子含量低于0.1ppb),光刻用顯影液金屬離子含量低于0.03ppb (大部分金屬離子達到G5等級),產(chǎn)品能夠滿(mǎn)足14nm以下工藝節點(diǎn)制程要求。